日本进口HORIBA堀场IT-545N辐射温度计 一种方便的非接触式辐射温度计，可让您使用点标记查看测量位置。虽然它是行业最高标准的高精度温度计* ，但它携带方便，让您轻松测量温度。可以实现非接触、准确、高效的温度测量，例如在高温、高压的危险场所，例如检查变电站设备的异常发热，或者在快速卫生测量时，例如检查冷藏食品的温度。

北崎原装HORIBA堀场辐射温度计IT-545NH 一种方便的非接触式辐射温度计，可让您使用点标记查看测量位置。虽然它是行业最高标准的高精度温度计* ，但它携带方便，让您轻松测量温度。可以实现非接触、准确、高效的温度测量，例如在高温、高压的危险场所，例如检查变电站设备的异常发热，或者在快速卫生测量时，例如检查冷藏食品的温度。

HORIBA堀场小型等离子发射监测器EV2.0 LR 在半导体制造工艺中，等离子体技术被广泛应用于各种制造工艺中，包括薄膜沉积和蚀刻。 该等离子体发射监测仪可用于广泛的应用，从各种等离子体室的研发到生产线，例如工艺终点检测、状态管理和等离子体诊断。

现货HORIBA堀场等离子发射监测器EV2.0 STD 在半导体制造工艺中，等离子体技术被广泛应用于各种制造工艺中，包括薄膜沉积和蚀刻。 该等离子体发射监测仪可用于广泛的应用，从各种等离子体室的研发到生产线，例如工艺终点检测、状态管理和等离子体诊断。

进口HORIBA堀场EV2.0 HR等离子发射监测器 在半导体制造工艺中，等离子体技术被广泛应用于各种制造工艺中，包括薄膜沉积和蚀刻。 该等离子体发射监测仪可用于广泛的应用，从各种等离子体室的研发到生产线，例如工艺终点检测、状态管理和等离子体诊断。

原装HORIBA堀场等离子发射控制器RU-1000 使用反应溅射将触摸面板和玻璃基板的薄膜沉积在基材上。反应性溅射是在真空中使溅射粒子与氧或氮发生化学反应来成膜的方法，但定量供给反应气体的方法会减慢成膜速度，难以实用化。然而，已知存在一种不稳定的过渡模式，其中沉积速率在沉积速率快​​的反应模式和金属模式之间变化很大，并且可以通过基于等离子体控制反应气体来维持过渡区域排放强度。