HORIBA堀场HF-700A微量氢氟酸浓度监测仪 这是一种痕量氢氟酸浓度监测仪，用于管理湿法工艺中硫酸和过氧化氢中 ppm 级氢氟酸浓度。 硫酸、过氧化氢和微量氢氟酸的浓度控制，可有效去除蚀刻工艺后的聚合物残留物，并可稳定、连续地测量到 ppm 级，从而可以进行有效的工艺管理。

原装供应HORIBA堀场化学浓度监测仪CS-100 这是用于湿法工艺中使用的各种化学溶液的化学浓度监测仪系列。 您可以从 100 多种应用类型中选择适合化学液体的型号。实时测量每种成分的浓度，并发出警报通知您何时更换化学溶液或自动补充。较短的测量周期能够忠实地跟踪浓度变化。

现货供应HORIBA堀场CS-700化学浓度监测仪 这是一款化学浓度监测仪，可以准确测量半导体制造工艺中使用的混合液体中各成分的浓度。 非常适合控制多组分化学溶液，包括商标化学溶液。它有助于加强半导体制造工艺的质量控制，提高化学品管理的准确性。

进口HORIBA堀场CS-151F1光纤化学浓度检测仪 这是一款光纤型化学浓度监测仪，可实现清洗、蚀刻等半导体制造工序中使用的化学物质的在线实时测量。 可以进行在线实时测量。使用一台浓度计可以同时测量多达 4 种类型（化学溶液或微波），因此适合在一槽/单晶圆清洁设备中进行测量。

日本HORIBA堀场CS-600F光纤化学浓度监测仪 这是一种光纤型化学浓度监测仪，可测量清洗和蚀刻等半导体制造过程中使用的化学物质。 实现对湿法工艺的高温化学溶液的直接测量。实现“快速、稳定、节省空间”，实现更高效、高精度的化学品管理。

北崎HORIBA堀场CS-620F高温磷酸浓度监测仪 无需冷却即可实时测量高温磷酸的磷酸浓度监测仪。 非常适合控制半导体制造工艺中使用的磷酸浓度，主要是3D NAND闪存的SiN层*1 蚀刻工艺。 *1 SiN层：在硅晶片等上形成的硅和氮化合物的薄膜。